EVG^®7300

EVG^®7300 UVナノインプリント・リソグラフィ装置は、SmartNIL、ウェーハレベル・オプティクス（WLO）、スタッキングといった3つの機能を1台に集約し、関連する様々なUVプロセスを柔軟にサポートします。

本装置はモジュール化された改良型SmartNILをベースにしたスタンドアロンシステムであり、基板搬送や自動化のレベルに応じて自由にカスタマイズすることができます。150mmから300mmまでのウェーハサイズをサポートするEVG^®7300は、300 nmまでの高精度アライメントや高度なプロセス制御、および高スループットを特長としており、最先端の研究開発から、大量生産（HVM）に至るまで、さまざまな形状かつ高精度のナノ・マイクロ光学コンポーネントやデバイスのニーズに対応します。また、前処理や後処理との統合が求められるHVM環境下では、このモジュールをHERCULES NIL装置に組み込んで使用することができます。

この多機能なシステムは、マイクロ・ナノインプリントや機能層のUVスタッキングに関連した新規アプリケーションに幅広く対応するよう設計されており、ウェーハレベル・オプティクス（WLO）やナノフォトニクス、メタサーフェス、およびバイオメディカルチップなどでプロセス性能を向上させることができます。次世代の光学センサーやオプトエレクトロニクス製造を実現するための業界のニーズにマッチしたこれらのアプリケーションには、例えば、自動運転や車載、あるいは装飾照明用のマイクロレンズアレイとプロジェクター、生体認証用の回折光学部品、そして、新たなトレンドとなりつつある最先端のメタレンズなどが含まれます。この技術はバイオメディカル向けデバイスや拡張現実向け導波路の分野などですでに用いられており、ナノインプリントの適用によって複雑な構造を高品質に製造することを可能にしています。