EVG独自のSmartNIL®技術を搭載し、最大100 mmまでのUVナノインプリント機能を備えたマスクアライメント装置
EVG620 NTは、高い柔軟性と信頼性を備え、コンパクトな設置面積で最先端のマスクアライメント技術を実現します。操作性に優れたソフトウェア、マスクやツールの切り替え時間の最小化、そして効率的なグローバルサービスとサポートにより、本装置はあらゆるR&D環境から半自動量産まで、理想的なソリューションとなります。本装置は、バキュームコンタクト、ソフトコンタクト、ハードコンタクト、プロキシミティ露光モードなど、さまざまな標準リソグラフィプロセスに対応しています。さらに、EVG独自のSmartNIL技術にも対応しています。
SmartNILは業界をリードするNIL技術であり、40 nm*未満の極めて微細な構造に加え、幅広いサイズや形状の構造のパターニングを可能にします。SmartNILと繰り返し使用可能なソフトスタンプ技術の組み合わせにより、スケーラビリティとメンテナンス性に優れた操作性を維持しながら、比類のないスループットと、所有コストにおける大きなメリットを実現します。EVGのSmartNILは、マイクロ・ナノスケール構造の量産を実現する、低コストかつ大量生産が可能な代替リソグラフィ技術として、ナノインプリントに寄せられてきた長年の期待を実現します。
*解像度はプロセスやテンプレートに依存
特長
- 上面および下面アライメント機能
- 高精度アライメントステージ
- 自動ウェッジ補正シーケンス
- 電動・レシピ制御式露光ギャップ
- 最新のUV-LED技術に対応
- 最小限の装置フットプリントと設備要件
- ステップバイステップのプロセスガイダンス
- リモート技術サポート
- マルチユーザーコンセプト（ユーザーアカウントとレシピの登録数無制限、アクセス権の割り当て、ユーザーインターフェースの多言語対応）
- 迅速な処理およびプロセス切り替え
- テーブルトップタイプまたはスタンドアロンタイプ（グラナイト製防振台付き）
- 追加機能：
- ボンドアライメント
- IRアライメント
- SmartNIL
- マイクロコンタクトプリンティング
技術データ
| ウェーハ径（基板サイズ） |
|---|
| 標準リソグラフィ：最大150 mm |
| ソフトUV-NIL：最大150 mm |
| SmartNIL®：最大100 mm |
| 解像度 |
|---|
| ≤ 40 nm（解像度はプロセスやテンプレートに依存） |
| 対応プロセス |
|---|
| ソフトUV-NILおよびSmartNIL® |
| 露光源 |
|---|
| 水銀光源またはUV LED光源 |
| アライメント |
|---|
| ソフトNIL：≤ ± 2 µm |
| SmartNIL®: ≤ ± 3 µm |
| 自動剥離 |
|---|
| ソフトUV-NIL：非対応 |
| SmartNIL®:対応 |
| ワーキングスタンプ作製 |
|---|
| ソフトUV-NIL：外部 |
| SmartNIL®:対応 |
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