仮接合は、ウェーハの薄化を可能にし、薄ウェーハの搬送をサポートするために不可欠なプロセスです。これは、2.5D、3D IC、ファンアウト・ウェーハレベル・パッケージング(FoWLP)ウェーハなどの先端パッケージング、そしてパワーデバイスや化合物半導体、MEMSウェーハなどの壊れやすい基板を搬送する工程においての鍵となっています。EVGは、仮接合技術や剥離装置などを含むウェーハ接合に関する優れたノウハウがあり、2001年の関連装置リリース以来、大手のファブ、ファウンドリ、パッケージング企業にこれらの技術と装置を提供しています。
剥離技術におけるEVGの最新のイノベーションはUVおよびIRレーザー剥離技術です。幅広いプロセスウィンドウと、スムーズなプロセス統合を実現する低温剥離により、次世代デバイス向けの超薄型チップとパッケージの製造が可能になっています。これらの剥離技術は、先端パッケージングのHVM生産に初めて導入されたEVGの熱スライドオフ剥離を補完するものです。
EVGでは、市販されている各種の材料に対応するオープンプラットフォームで、EVGが提供する様々な剥離技術と組み合わせることにより、特殊な要件を持つ幅広いアプリケーションに合わせてカスタマイズされたソリューションを実現します。
Listen to our talk "Innovative Digital Patterning Technology for UHD FO WLP and PLP Required for 3D Structures Integration" by Business Development Manager Dr. Ksenija Varga and visit our booth!
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Visit our booth and listen to our talk “Combining Inkjet Printing and Nanoimprint Lithography for Nanopatterning with Uniform Residual Layer Thickness” held by Senior Process Technology Engineer Patrick Schuster.
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