EVG独自のSmartNIL®技術を搭載し、フレキシブルスタンプを利用した最大150 mm対応のフルフィールドUVナノインプリント・リソグラフィ装置
EVG720システムは、EVGの革新的なSmartNIL技術により、高いパターン忠実度と薄い残留層を特徴とするマイクロ・ナノ構造の製造を実現します。露光光源には、出力調整可能なLEDランプを採用しています。 本装置は、多種多様なUV硬化材料を迅速に固化させることで、スループットを向上させます。荷重測定により離型プロセスを制御することで、高い歩留まりを実現します。比類のないスループットと優れた所有コストを実現し、大面積へのナノ構造形成が可能なSmartNIL技術搭載のEVG720システムは、回折光学素子（DOE）などの次世代マイクロ流体デバイスやフォトニックデバイスの量産に最適です。
*解像度はプロセスやテンプレートに依存。
特長
- 優れた複製忠実度と量産実績を兼ね備えたインプリント技術
- 繰り返し使用可能なポリマースタンプ技術を採用した独自のSmartNIL®技術
- インプリント、UV硬化と離型、ワーキングスタンプ作製を統合
- 手動構成および自動構成に対応
- 自動カセット・トゥ・カセット搬送に加え、半自動R&Dモードを搭載
- 基板サイズ：基板片～150 mm
- 加熱機能付きチャック
- オプションの上面アライメント
- オプションのミニエンバイロメント
- 市販のすべてのインプリント材料に対応したオープンプラットフォーム
- R&Dから生産までのスケーラビリティ
- 高いプロセス安定性と信頼性を実現するシステムハウジング
技術データ
| ウェーハ径（基板サイズ） |
|---|
| 75～150 mm |
| 解像度 |
|---|
| ≤ 40 nm（解像度はプロセスやテンプレートに依存） |
| 対応プロセス |
|---|
| SmartNIL® |
| 露光源 |
|---|
| ハイパワー狭帯域 |
| アライメント |
|---|
| オプションの上面アライメント |
| 自動剥離 |
|---|
| 対応 |
| ミニエンバイロメントと環境制御 |
|---|
| オプション |
| ワーキングスタンプ作製 |
|---|
| 対応 |
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