EVG^®7200 LA

EVG7200大面積向けUVナノインプリント装置は、ナノインプリント・リソグラフィ（NIL）をパネルサイズ（Gen）の基板へと展開し、最新世代のSmartNIL技術を搭載しています。ディスプレイ、ワイヤーグリッド偏光子、バイオテクノロジー、フォトニクスデバイスなど、サイズを縮小できないアプリケーションでは、パターン領域を増やして基板の利用効率を高めることが重要です。NILは、光学系の性能に制限されずに、超微細パターンを忠実に再現できることから、大面積にナノスケールパターンを形成するための最もコスト効率の高い方法であることが証明されています。

SmartNILは、堅牢かつ高精度に制御可能なプロセスにより、最小40 nm*までの優れたコンフォーマルインプリントを実現します。EVGは、比類のない使いやすさをはじめとする独自の、実績ある装置性能と高度なプロセス専門知識を組み合わせ、ナノインプリント技術を新たなレベルへと引き上げることで、業界のニーズに応えます。

*解像度はプロセスやテンプレートに依存。