GEMINI® FB

全自動量産用ウェーハ接合装置

高精度アライメントとフュージョン接合のための統合型プラットフォーム

半導体デバイスの垂直積層は、デバイスの密度と性能を継続的に向上させる上で、ますます有望なアプローチとなっています。ウェーハ・トゥ・ウェーハ接合は、3D積層デバイスを実現するための不可欠なプロセスステップです。EVGのGEMINI FB XT統合フュージョン接合装置は、既存の標準をさらに発展させ、メモリ積層、3Dシステムオンチップ(SoC)、裏面照射型CMOSイメージセンサー積層、ダイ分割などのアプリケーション向けに、高い生産性と向上したアライメントおよびオーバーレイ精度を両立しています。本装置は、フュージョンおよびハイブリッドウェーハ接合のアライメント要件に合わせて特別に開発されたSmartViewボンドアライナーを搭載しています。

特長

  • サブ50 nmのウェーハ・トゥ・ウェーハアライメント精度を実現する、新型SmartView® NT3フェイス・トゥ・フェイス・ボンドアライナー
  • 最大6つの前処理モジュール(例):
    • 洗浄モジュール
    • LowTemp™プラズマ活性化モジュール
    • アライメント検証モジュール
    • 剥離モジュール
  • EFEM(装置フロントエンドモジュール)による最高のスループットを実現するXT Frameコンセプト
  • オプション機能:
    • 剥離モジュール
    • 熱圧着接合モジュール

技術データ

ウェーハ径(基板サイズ)
200, 300 mm
最大プロセスモジュール数
6 + SmartView® NT
オプション機能
剥離モジュール
熱圧着接合モジュール

Talk to our EVG product experts!

Questions?

Explore our other products in this category