EVG^®620 NT

汎用性と信頼性を誇るEVG620 NTは、最小限のフットプリントで最先端のマスクアライメント技術を提供するとともに、高度なアライメント機能と最適化された総所有コスト（TCO）を兼ね備えています。本装置は光学式両面リソグラフィに最適なツールで、半自動または自動構成で提供されます。オプションのフルハウジングGen 2ソリューションを追加することで、大量生産の要件やファブの標準にも対応します。操作性に優れたソフトウェア、マスクやツールの切り替え時間の最小化、そして効率的なグローバルサービスとサポートにより、本装置はあらゆる製造環境にとって理想的なソリューションとなります。EVG620 NTまたはフルハウジングのEVG620 NT Gen2マスクアライメント装置は、防振機能を備えており、薄膜・厚膜レジストの露光、深いキャビティや同等のトポグラフィのパターニング、化合物半導体などの薄くて割れやすい材料の処理など、幅広いアプリケーションで優れた露光結果を達成します。さらに、EVG独自のSmartNILテクノロジーは、半自動および全自動の両方の装置で使用できる構成になっています。