EVG®6200 NT

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EVG^®6200 NT マスクアライナーは、光学式両面リソグラフィと最大200 mmのウェーハサイズに対応する汎用性の高いツールです。

自動化における柔軟性と信頼性を誇るEVG6200 NTは、最小限のフットプリントで最先端のマスクアライメント技術を提供し、業界最高水準のスループット、高度なアライメント機能、最適な総所有コストを実現しています。操作性に優れたソフトウェアを搭載し、マスクやツールの交換時間を最小限に抑え、効率的なワールドワイド・サービスサポートで、あらゆる製造環境にとって理想的なソリューションとなります。EVG6200 NTまたはフルハウジングのEVG6200 NT Gen2マスクアライメント装置は、半自動または自動構成に対応し、防振機能を備えています。これにより、薄膜・厚膜レジストの露光、深いキャビティや同等のトポグラフィのパターニング、化合物半導体などの薄くて割れやすい材料の処理など、幅広いアプリケーションで優れた露光結果を達成します。さらに、EVG独自のSmartNILテクノロジーが、半自動および全自動の両方の装置で使用できる構成になっています。

特長

200 mm/8インチまでのウェーハ/基板サイズ
多様なリソグラフィプロセスに対応するシステム設計
スループット最大180 WPH（ファーストプリントモード）/ 140 WPH（自動アライメントモード）
壊れやすいウェーハ、薄ウェーハ、または反りウェーハなど、さまざまな形状・サイズの処理に対し、ツールの切り替えが短時間で可能
近接スペーサーによる自動非接触ウェッジ補正シーケンス
アライメントキーを正確にセンタリングする自動原点機能
リアルタイム・オフセット補正機能を備えたダイナミックアライメント機能
最新のUV-LED技術に対応
リワーク・ウェーハ選別管理＆フレキシブル・カセットシステム
自動装置でも基板を手動で投入可能
半自動装置から完全自動化へ、装置のフィールド・アップグレードが可能
装置フットプリントの最小化と最小限の設備要件
マルチユーザー・コンセプト（ユーザーアカウントとレシピの登録数無制限、割り当て可能なアクセス権、さまざまな言語に対応するユーザーインターフェース）
高度なソフトウェア機能、およびR&Dから本格生産にわたる互換性
迅速な処理とコンバージョンツール交換
リモート技術サポートとSECS/GEM対応
テーブルトップタイプまたはスタンドアローンタイプ（グラナイト製防振台付き）
その他の機能：
- ボンドアライメント
- IRアライメント
- ナノインプリント・リソグラフィ（NIL）
- SmartNIL®

技術データ

露光源
水銀光源 / UV LED光源

高度なアライメント機能
マニュアルアライメント / in-situアライメント検証
自動アライメント
ダイナミックアライメント / 自動エッジアライメント
アライメントオフセット補正アルゴリズム

スループット
全自動：ファーストプリントスループット：180枚/時
全自動：アライメント時スループット：140枚/時

ウェーハ径（基板サイズ）
最大200 mm

アライメントモード
トップサイドアライメント精度：≤ ± 0.5 µm
ボトムサイドアライメント精度: ≤ ± 1.0 µm
IRアライメント：≤ ± 2.0 µm（基板材料による）
ボンドアライメント：≤ ± 2.0 µm
NILアライメント：≤ ± 3.0 µm

露光設定
バキュームコンタクト / ハードコンタクト / ソフトコンタクト / プロキシミティモード / フレックスモード

ウェッジ補正
全自動 - ソフトウェア制御

露光オプション
インターバル露光 / 全面露光 / セクター露光

システム制御
オペレーションシステム：Windows
ファイル共有およびバックアップソリューション / レシピおよびパラメータ数が無制限
多言語対応ユーザーGUIとサポート：CN、DE、FR、IT、JP、KR
リアルタイム・リモート・アクセス、診断およびトラブルシューティング