LITHOSCALE®

マスクレス露光リソグラフィシステム

EV Group製品情報リソグラフィ装置LITHOSCALE Maskless Exposure Lithography SystemsLITHOSCALE® マスクレス露光リソグラフィシステム

LITHOSCALE®は、革新的で幅広い用途に対応したマスクレス露光リソグラフィプラットフォームで、多岐にわたる微細加工アプリケーション向けに設計され、最大で300mmのウェーハに対応します。

LITHOSCALEシステムは、EV GroupのMLE™マスクレス露光技術を搭載し、リアルタイムでのデータ転送と即時露光を可能とする強力なデジタル処理、高解像度とスループット拡張性で、従来技術におけるボトルネックの解消に取り組みました。 マスクフリーの手法を採用することで、マスク関連の消耗品は不要となります。また、調整可能な固体レーザー光源を備えた露光システムは、メンテナンスを最小限に抑える独自の自動キャリブレーション機能により、高い冗長性と長期安定性を実現できるよう設計されています。強力なリアルタイムでのデジタル処理により、設計ファイルから回路基板へ即時露光が可能となります。つまり、各デジタルマスクレイアウトのデータ変換に数時間をかける必要はありません。LITHOSCALEは、高解像度(<2µm L/S)と、基板全面に対しダイレベルで可変な配置と露光を特徴とし、消耗品が不要かつ迅速なプロセスは所有コストの低減を可能にします。LITHOSCALEシステムは、可視光および赤外光に対応した専用の対物レンズと、最大300 mmのウェーハサイズに対応する独自設計のチャックを使用して、ウェーハ全体に対し上面あるいは裏面への位置合わせを可能にします。このシステムは、基板の材質や表面状態の変化に適応するため、オートフォーカス機能による動的アライメントモードを備えています。フォーカスレベルを精密に制御することで、レジストの側壁形状を垂直に維持したり、所望の3D形状を実現できるとともに、エッジ部でのトッピングやフッティングを防止します。広範囲で作動する自動追従式フォーカスにより、露光面全体でパターンの均一性が保証されます。また、個別のダイ処理機能を提供する一方で、フルフィールドへの高速位置決めと動的アライメントにより、さまざまな基板サイズと形状に対して高いスケーラビリティを実現します。

特長

  • ウェーハ基板 300mmまで対応
  • 解像度< 2 µm L/S
  • 回折限界の高性能光学系を有するMLEテクノロジーを搭載
  • 波長375nmおよび/または405nmの露光スペクトル。単一波長、ブロードバンド、または各波長毎の設定をユーザーが任意に定義可能
  • 定期的なモニタリングと自動キャリブレーション機能付き固体光源により、長期安定性と高い冗長性を確保
  • 可視光または赤外光を用い、上面および下面位置合わせをサポートする高度な位置合わせモード
  • 焦点深度制御(DoF)<24 µm
  • 追従式オートフォーカス制御(AF)<100 µm
  • システム全体の安定性のために先端機械工学技術とキャリブレーションセンサーを組み込んだ、生産現場で実証済みの高精度位置合わせステージ
  • 以下を含む高度なソフトウェア機能:
    • 動的ダイレベル注釈
    • 先進的な歪み補正
    • ホストコンピュータを通じたマスクファイル転送とレシピ実行は各ウェーハ毎にフレキシブルに対応可能
    • レイアウト変換機能
    • 代替ファイル形式のサポート:Gerber、ODB ++、OASIS
  • 非接触式自動ウェッジ補正シーケンス
  • フットプリントを追加するすることなく、1つのシステムでR&Dと大量生産(HVM)のニーズに対応する拡張性のあるソリューション
  • 消耗品が不要な技術

技術データ

パターンの最小寸法
CD: ≤ 2 µm
アライメントモード
上面アライメント:≤ ± 0,5 µm
下面アライメント:≤ ± 1,0 µm
IR アライメント:≤ ± 1,0 µm/ 基板材料に依存
露光スペクトラム(シングル、ブロードバンド、または任意設定した波長の混合)
375 + 405 nm
ウェーハ径(基板サイズ)
300 mmまで
ウェッジ補正
非接触型
フォーカス
焦点深度[DoF]:24 µm
オートフォーカス[AF]:100 µm
動的アライメントモード[DAM]
グローバルアライメント
マルチポイントアライメント
LITHOSCALEの先進機能
デジタルマスクファイル転送及びホスト経由でのレシピ実行/ウェーハ毎に柔軟に対応
動的注釈機能
オートフォーカス機能
先進的な歪み補正機能
レイアウト変換機能
Gerberファイル形式のサポート
ODB++ファイル形式のサポート
OASISファイル形式のサポート
業界標準オートメーション機能
カセット
FOUP
SECS /GEM
システムコントロール
オペレーションシステム:Windows
ファイル共有とバックアップソリューション/レシピやパラメータの数に制限なし
柔軟なプロセスフローの定義
ドラッグアンドドロップによる簡単なレシピプログラミング
複数ジョブの並列処理
多国語に対応したGUI:中国語、ドイツ語、フランス語、イタリア語、日本語、韓国語をサポート
リモートアクセスによるリアルタイムでの診断、およびトラブル対応
スマートなプロセス制御とデータ解析機能 – Frameworkソフトウェアプラットフォーム
プロセスおよび装置制御のための統合分析機能
タスクの並列/逐次処理機能
装置およびプロセスのパフォーマンス追跡機能
スマートな搬送機能
事象の発生とアラームの分析
スマートなメインテナンス管理と追跡

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