リソグラフィ

EVGのリソグラフィ技術の要になるのは、高スループットでの接触又はプロキシミティ露光が可能なマスクアライナー(EVG® 600, EVG® 6000, IQ Aligner)や統合が可能なプラットフォームを持つコーター(EVG® 100シリーズ)です。EVGのリソグラフィ装置は全て300mm対応で、将来的にリソグラフィ統合装置Hercules®への移行も可能です。 また、上下面アライメント確認の為の、メトロロジー機能も兼ね備えています。

EVGが発表したレジストコーティング技術、OmniSprayとNanoSpray™は、リソグラフィプロセスの成長に大きく貢献しました。 これらのユニークな技術はTSV構造やアスペクト比が1:5のようなトポグラフィの高い面にも均一にコーティングすることができ、製造コストの大幅削減も可能にします。

更に低コストで信頼性の高い技術の開発の為、EVGはお客様と協力しながら新技術の開発を進めています。 この成果の一つとしてナノインプリント装置である、UV-ナノインプリントリソグラフィ装置とホットエンボス装置を開発しました。更なる発展が予想されるナノインプリントリソグラフィ装置メーカーとして大きなマーケットシェアを獲得しています。