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EV集团使用NanoCleave离型层技术改变从先进封装到晶体管微缩的3D集成

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EVG®40 NT2

EV集团推出3D异构集成高速高精度计量系统

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EVG®7300

EV集团新型多功能微纳米压印解决方案为大批量光学设备制造赋予前所未有的灵活性

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EVG 刊登的文章

异构集成和3D封装的新兴计量需求 – 请阅读我们在《半导体文摘》(Semiconductor Digest)杂志上的文章

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发明-创新-实施

Triple i 理念

我们的Triple i理念体现在整个公司对技术的热情、创新实力和国际化。我们的愿景是“率先探索新技术，为微纳米制造技术的下一代应用服务”，这使我们的客户能够成功地将他们的新产品理念商业化。

我们的产品

用于大规模制造微电子和纳米电子产品行业领先的晶圆加工设备

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我们的技术

解决关键光刻、晶圆键合和量测要求的核心技术和工艺技术

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新闻和事件

新闻
事件
07.11.2022

EV集团推出下一代EVG150抗蚀剂处理平台，提升集团光学光刻领域的领先地位

The EVG®150 automated resist processing system provides reliable and high-quality coating and developing processes in a universal platform that supports a variety of devices and applications, including advanced packaging, MEMS, radio frequency (RF), 3D sensing, power electronics, and photonics
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23.09.2022

Korea National Nanofab Center (NNFC) and EV Group Sign Memorandum of Understanding on Cooperation in Nanotechnology and IOT Sensors

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19.09.2022

EV Group and TOPPAN Photomask Join Forces to Accelerate Market Adoption of Nanoimprint Lithography for Photonics Manufacturing

Toppan Photomask manufactures photomasks for the semiconductor industry like the one shown here. Nanoimprint lithography (NIL) masters are made using the same materials, technology and techniques. Source: Toppan Photomask.
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