ナノインプリント・リソグラフィ（NIL）装置
EVGは、ナノインプリント・リソグラフィ（NIL）装置とその実装技術において、市場をリードするサプライヤーです。15年以上の研究を積み重ね、2インチの化合物半導体ウェーハから300 mmウェーハ、さらには大面積パネルに至るまでのNIL技術を確立し、その技術は今日、さまざまな基板サイズでの量産向けに使用されています。NILは、バイオMEMS、マイクロ流路デバイス、エレクトロニクス、そして近年では回折光学素子を用いた様々な商用アプリケーション向けにナノメートルスケールの解像度パターンを生成するための最も有望で費用効果の高いプロセスです。
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