EVG erhält „Grand Achievement Award“ für Nanoimprint-Technologie

30 Jahre Engagement und Forschung im Bereich der Nanoimprint-Lithographie auf der 24. Internationalen Konferenz für Nanoimprint- und Nanoprint-Technologie (NNT) gewürdigt.

Dana Point, CA, USA, 14. Oktober 2025 — EV Group (EVG), ein führender Anbieter von innovativen Prozesslösungen und Know-how zur Umsetzung zukunftsweisender Halbleiterdesigns und Ansätze zur 3D-Integration von Mikrochips, gab heute bekannt, dass das Unternehmen den „30 Years Nanoimprint Grand Achievement Award“ erhalten hat.

Die Auszeichnung wurde auf der 24. Internationalen Konferenz für Nanoimprint- und Nanoprint-Technologie (NNT) verliehen, die diese Woche in Dana Point, Kalifornien, stattfindet. Auf der Konferenz wird ein bedeutender Meilenstein gefeiert: das 30-jährige Jubiläum der Erfindung der Nanoimprint-Lithographie (NIL) durch Prof. Stephen Chou von der Princeton University im Jahr 1995.

Professor Fabian Pease (Stanford University), ein Pionier der Nanotechnologie, dessen Arbeit das Fachgebiet maßgeblich geprägt hat, überreichte EVG den Preis für „transformative Beiträge zur Nanoimprint-Technologie durch Pionierarbeit, Entwicklung und Kommerzialisierung von Hochvolumen-Produktionsanlagen, die den weltweiten industriellen Einsatz der Technologie ermöglichen“.

EVG ist auf der NNT in diesem Jahr stark vertreten. Über die Entgegennahme der Auszeichnung und die Präsentation seiner branchenführenden NIL-Lösungen, die im Markt breite Akzeptanz zur Massenfertigung in einer Vielzahl kommerzieller Anwendungen gefunden haben, trägt EVG auch mit zwei Vorträgen zum hochkarätigen Konferenzprogramm bei:

Thomas Glinsner (Corporate Technology Director) hält einen Plenarvortrag zum Thema “From Experimental to Essential – NIL’s Evolution in Industry”, der die Entwicklung von NIL von der Forschung bis zur industriellen Anwendung beleuchtet.
Johanna Rimböck (Technology Development) hält im Rahmen einer technical session einen Vortrag mit dem Titel “From coffee rings to slopes: Solid content effects in inkjet coating for NIL”.

Mehr Informationen zu den Lösungen von EVG im Bereich NIL findet man hier: https://www.evgroup.com/products/nanoimprint-lithography

Über EV Group (EVG)

EV Group (EVG) bietet innovative Prozesslösungen und Know-how zur Umsetzung zukunftsweisender Halbleiterdesigns und Ansätze zur 3D-Integration von Mikrochips. Der Leitgedanke bzw. die Vision des Unternehmens, erster in neuesten Technologien zu sein und fortschrittlichste Anwendungen der Mikro- und Nanotechnologie zu unterstützen, ermöglicht den Kunden die erfolgreiche Vermarktung ihrer neuen Produktideen. Die für die Hochvolumenproduktion ausgelegten Produkte der EV Group, zu denen Waferbonding-, Lithographie-, Dünnwafer-Verarbeitungs- und Messtechniksysteme gehören, ermöglichen weitere Fortschritte bei der Skalierung des Halbleiter-Frontends, der 3D-Integration und beim Advanced Packaging sowie bei anderen Elektronik- und Photonikanwendungen.

Mehr Informationen unter www.EVGroup.com.