LITHOSCALE® マスクレス露光リソグラフィシステム
マスクレス露光リソグラフィ装置は、EVGリソグラフィ装置のまったく新しい製品プラットフォームです
MLE（マスクレス露光）技術は、革新的な次世代リソグラフィ技術としてEV Groupが開発し、先端パッケージング、MEMS、バイオメディカル、IC基板の製造で必要とされる未来のバックエンドリソグラフィに対応します。 高い拡張性を持つ、世界初となる量産対応のマスクレス・リソグラフィ技術（MLE）は、卓越したフレキシビリティで、新しいデバイスの開発サイクルを最短のものにします。
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