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MLE™ (Maskless Exposure) Technologie von EV Group wird auf der productronica / SEMICON Europa 2019 mit dem GLOBAL Technology Award ausgezeichnet

Die bahnbrechende MLE™-Technologie von EVG bietet unübertroffene Flexibilität, Skalierbarkeit und Cost-of-Ownership-Vorteile im Vergleich zu existierenden High-Volume-Lithographieverfahren

Trevor Galbraith, Chefredakteur der Zeitschrift Global SMT & Packaging, überreicht den GLOBAL Technology Award an EV Group

Die Preisverleihung der GLOBAL Technology Awards fand im Rahmen der productronica und SEMICON Europa 2019 in München statt

ST. FLORIAN, Österreich, 12. November 2019 — EV Group (EVG), ein führender Entwickler und Hersteller von Anlagen für Waferbonding- und Lithographieanwendungen in der Halbleiterindustrie, Mikrosystemtechnik und Nanotechnologie, bekam heute für die wegweisende, maskenlose Exposure-Technologie MLE™ den GLOBAL Technology Award in der Kategorie Best Product – Europe vom Chefredakteur der Zeitschrift Global SMT&Packaging überreicht. EVG und weitere, ausgewählte Unternehmen wurden bei einer Preisverleihung während der productronica und SEMICON Europa 2019 in München ausgezeichnet. Dabei standen die innovativsten Produkte und Technologien im Mittelpunkt, die von den Herstellern von Equipment und Materialien für die Elektronikfertigung in den letzten 12 Monaten vorgestellt wurden.

Die MLE-Technologie von EVG ist eine revolutionäre Lithographie-Technologie der nächsten Generation, die für zukünftige Backend-Lithographie-Anforderungen bei Anwendungen im Bereich Advanced Packaging, MEMS, Bio- und Medizintechnik sowie High-Density-PCBs entwickelt wurde. Als weltweit erste hochskalierbare, maskenlose Lithographie-Technologie für die Hochvolumenfertigung bietet MLE unübertroffene Flexibilität, um extrem kurze Entwicklungszyklen für neue Produkte zu ermöglichen.

"Wir fühlen uns geehrt, diese prestigeträchtige Auszeichnung für unsere MLE-Technologie zu erhalten, die einen revolutionären Durchbruch in der Backend-Lithographie darstellt. Die heterogene Integration erhöht die Anforderungen an die Backend-Lithographie, was wiederum den Bedarf an neuen Lithographieansätzen erhöht, die keine Kompromisse bzgl. Leistung oder Kosten erforderlich machen. Unsere MLE-Technologie ist darauf ausgelegt, die zukünftigen Herausforderungen an die Backend-Lithographie zu meistern und alle Anforderungen an eine adaptive Strukturierung in Anwendungsbereichen wie Advanced Packaging und High-Density Interconnect PCBs zu erfüllen. Wir freuen uns, dass die Vorzüge dieser bahnbrechenden Technologie von den Preisrichtern anerkannt wurden", sagte Dr. Bernd Thallner, Corporate R&D Project Manager bei EV Group.

MLE ermöglicht die nahtlose, maskenlose Belichtung der gesamten Substratoberfläche mit hoher Auflösung (< 2 Mikrometer L/S) mit hohem Durchsatz und niedrigen Gesamtkosten (CoO). Das System ist entsprechend der Nutzeranforderungen durch die Hinzu- oder Wegnahme von UV-Exposureköpfen skalierbar, um so den schnellen Übergang vom Forschungs- und Entwicklungsstadium in die Hochvolumenfertigung zu erleichtern, den Durchsatz zu optimieren oder die Anpassung an unterschiedliche Substratgrößen und –Materialien zu ermöglichen. Zudem ist das System ideal für die Bearbeitung einer Reihe unterschiedlicher Substrate, von kleinen Silizium- oder Verbundhalbleiterwafern bis zu größeren Panels, geeignet. MLE erzielt bei der Strukturierung dank einer flexiblen und skalierbaren Hochleistungs-UV-Laserquelle mit mehreren Optionen bzgl. der Exposure-Wellenlängen unabhängig von den verwendeten Fotoresists stets die gleichen Leistungsdaten.

Weitere Informationen über die maskenlose Belichtungstechnologie MLE von EVG finden Sie unter https://www.evgroup.com/de/technologien/mle-maskless-lithography/

Über EV Group (EVG)

Die EV Group (EVG) ist anerkannter Technologie- und Marktführer für Präzisionsanlagen und Prozesslösungen zur Waferbearbeitung in der Halbleiterindustrie, Mikrosystemtechnik und Nanotechnologie. Zu den Kernprodukten gehören Waferbonder, Systeme zur Dünnwafer-Bearbeitung, Lithographie- und Nanoprägelithographie-Systeme sowie Fotoresist-Belacker, Reinigungs- und Metrologiesysteme. Das 1980 gegründete Unternehmen mit Hauptsitz in St. Florian am Inn (Austria) beschäftigt mehr als 900 Mitarbeiter und betreut mit eigenen Niederlassungen in USA, Japan, Korea, China und Taiwan sowie Repräsentanzen namhafte Produktionskunden und R&D-Partner in aller Welt. Mehr Informationen unter www.EVGroup.com.

 

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Tel: +43 7712 5311 0
E-mail: Marketing@EVGroup.com

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E-mail: dmoreno@openskypr.com 

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