EV Group bringt Nanopräge-Lithographie mit neuem HERCULES® NIL Track-System zur Großserien-Produktionsreife

Vollintegriertes UV Nanoimprint Lithography (NIL) Track-System vereint EVGs Erfahrung im Bereich Lithographie und Resistverarbeitung und zielt zunächst auf die Photonik-, MEMS- und NEMS-Produktion.

ST. FLORIAN, Austria, 7. Juli 2015 - EV Group (EVG), ein führender Entwickler und Hersteller von Anlagen für Waferbonding- und Lithographieanwendungen in der Halbleiterindustrie, Mikrosystemtechnik und Nanotechnologie, stellt mit dem HERCULES® NIL ein vollintegriertes Track-System vor, das Prozess-Vorstufen wie Reinigung, Resist-Belacken und Bake mit EVG's proprietärem SmartNIL™ Prozess zur großflächigen Strukturierung in einer Plattform kombiniert. Der HERCULES NIL stellt eine speziell für UV-NIL entwickelte Komplettlösung dar, die industrieweit führende Produktivitäts- und Durchsatzwerte bietet und die sich perfekt für die Großserienfertigung neuartiger photonischer Bauteile und Komponenten eignet.

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EVG® HERCULES® NIL, ein vollintegriertes UV-NIL Track-System, das Prozess-Vorstufen wie Reinigung, Resist-Belacken und Bake mit EVG's proprietärem SmartNIL™ Prozess zur großflächigen Strukturierung in einer Plattform kombiniert.
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Dazu werden durch den Imprint-Prozess Strukturen vom zweistelligen Nanometerbereich bis hin zu mehreren Mikrometern erzeugt, die die optischen Eigenschaften von Oberflächen und Bauteilen verändern oder verbessern können. Zu den Einsatzgebieten gehören untere anderem Antireflexionsbeschichtungen, Farb- und Polarfilter, lichtführende Elemente und strukturierte Saphirsubstrate für die Herstellung von LEDs. Zu den weiteren Einsatzgebieten für die NIL-Technologie gehören MEMS-, NEMS- sowie biologische und nano-elektronische Anwendungen.  "Der HERCULES NIL ist ein gutes Beispiel für die Umsetzung unserer 'Triple i' Philosophie 'invent-innovate-implement'," so Paul Lindner, Executive Technology Director bei EV Group. "EVG war bei der Entwicklung von NIL-Anlagen ein absoluter Pionier. Nach über einem Jahrzehnt der Forschung und ständigen Weiterentwicklung haben wir NIL jetzt in ein Reifestadium gebracht, in dem die Technologie in bestimmten Anwendungen deutliche Vorteile gegenüber der traditionellen, optischen Lithographie bietet. Der Hercules NIL unterstützt ein sehr breites Feld von Anwendungen vor allem im Bereich Photonik und Biotechnologie und ermöglicht es, die Cost of Ownership- und Strukturgrößenvorteile von NIL endlich auch in der Hochvolumenproduktion zu realisieren."

Der HERCULES NIL vereint EVGs umfassende Kompetenz im Bereich NIL, Resistverarbeitung und HVM-Lösungen in einem integrierten System mit dem unübertroffenen Durchsatz von 40 Wafern pro Stunde (200 mm Wafergröße). Das System ist auf einer konfigurierbaren, modularen Plattform aufgebaut, die eine Vielzahl von Imprint-Materialien und Strukturgrößen unterstützt und den Kunden somit größte Flexibilität bei der Lösung ihrer Produktionsanforderungen gibt. Durch die vollständige Integration aller Prozessschritte wird zudem das Risiko der Partikel-Kontaminierung minimiert.

Zu den wichtigsten Produkteigenschaften gehört:

- Vollautomatisches UV-NIL Imprinting mit schonender Trennung des Stempels vom Substrat
- Verarbeitung von Substraten mit bis zu 200 mm Durchmesser
- Vollflächen-Imprint zur Vermeidung von Stitching-Problemen bei großflächigen Strukturen, die oft mit Lithographie-Steppern wegen deren begrenztem Imprint-Feld in Verbindung gebracht werden 
- Herstellung von Strukturen bis hinunter zu 40 nm Größe und darunter in Großserie
- Höchste Belackungs-Uniformität von +/- 1 Prozent führt zu geringsten Schichtdickenabweichungen der erstellten Strukturen über den gesamten Wafer
- Unterstützung einer breiten Palette von Strukturgrößen und -Formen einschließlich 3D
- Auch auf rauhen Oberflächen mit hoher Topographie einsetzbar
- Fähigkeit, im System selbst Soft Stamps für den Mehrfacheinsatz herzustellen und damit die Lebensdauer der Masterstempel bzw. Templates deutlich zu erhöhen   

EVGs neuer HERCULES NIL ist ab sofort verfügbar. Erste Systeme wurden bereits bei führenden Herstellern photonischer Devices installiert und werden dort in der Hochvolumenfertigung eingesetzt.


Über EV Group (EVG)
Die EV Group (EVG) ist anerkannter Technologie- und Marktführer für Präzisionsanlagen und Prozesslösungen zur Waferbearbeitung in der Halbleiterindustrie, Mikrosystemtechnik und Nanotechnologie. Zu den Kernprodukten gehören Waferbonder, Systeme zur Dünnwafer-Bearbeitung, Lithographie- und Nanoprägelithographie-Systeme sowie Fotoresist-Belacker, Reinigungs- und Metrologiesysteme. Das 1980 gegründete Unternehmen mit Hauptsitz in St. Florian am Inn (Austria) beschäftigt mehr als 750 Mitarbeiter und betreut mit eigenen Niederlassungen in USA, Japan, Korea, Taiwan und China sowie Repräsentanzen namhafte Produktionskunden und R&D-Partner in aller Welt.
Für mehr Informationen siehe www.EVGroup.com.



Kontakt:

Ansprechpartner:
Clemens Schütte 
Director, Marketing and Communications
EV Group
Tel: +43 7712 5311 0
E-mail: Marketing@EVGroup.com

David Moreno
Vice President
MCA, Inc.
Tel: +1.650.968.8900, ext. 125
E-mail: dmoreno@mcapr.com

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