NanoAlign技術
EVグループの新しいNanoAlign技術は、業界における最高のアライメント精度と高解像度、低コストオブオーナーシップによって他の追随を許さない全面リソグラフィ技術を提供しています。新しいNanoAlign技術の特長は、ランアウト制御と100ナノ未満のダイナミックアライメント解像度を実現し、更にUV-ナノインプリント(UV-NIL)の機能も付加することができる点です。 EVグループのNanoAlign技術は、口径300-mmまでのウェーハのパッケージング、UV-NIL、マイクロコンタクトプリント、SAWデバイス、及び光学グレーティング(回折格子)に特に有効です。同技術は、EVグループの全マスクアライナーに適用できます。(EV6200 Infinityアライナーを含みます) 。 新型EVG6200 InfinityアライナーはあらゆるMEMS、化合物半導体、ナノインプリントリソグラフィー、及びパワーデバイス用のアプリケーション、並びにウェーハバンピング、及びチップスケールパッケージング業界用に設計されています。 |
